鍍錫(xi)凸塊(kuai)Pillar：專為銅(tong)柱(zhu)上鍍錫(xi)凸塊(kuai)工藝設計，電流密度(du)大，沉積(ji)速率高(gao)，且凸塊(kuai)均一。
操作條件
參 數 | 范 圍 | 最 佳 值 |
錫濃度 | 45 – 55 g/L | 50 g/L |
酸濃度 | 80 - 120 g/L | 100 g/L |
溫度 | 40 – 60 ℃ | 50 ℃ |
REM-3000 A劑 | 80 – 120 ml | 100 ml |
REM-3000 B劑 | 4 – 6 ml | 5 ml |
溶液攪動 | 強力攪動 | |
電流密度 | 5 - 50 ASD | 30 ASD |
